2019年第80回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

15 結晶工学 » 15.6 IV族系化合物(SiC)

[20p-E311-1~17] 15.6 IV族系化合物(SiC)

2019年9月20日(金) 13:30 〜 18:15 E311 (E311)

矢野 裕司(筑波大)、田中 保宣(産総研)

15:00 〜 15:15

[20p-E311-6] [講演奨励賞受賞記念講演] 高濃度ドープSiCショットキー障壁ダイオードにおける順方向熱電界放出電流および逆方向電界放出電流の発現

原 征大1、浅田 聡志1、前田 拓也1、木本 恒暢1 (1.京大院工)

キーワード:SiC、熱電界放出、電界放出

SiCにおけるオーム性接触の理解のために,金属/高濃度ドープSiC接合に関する基礎的な知見が不可欠である.本研究では, SiC SBDの障壁高さがドーピング密度の増加に伴って低下し,この低下が鏡像力効果によって定量的に説明できることを明らかにした.また,高濃度ドープSiC SBDの順方向電流-電圧特性が熱電界放出モデルにより説明でき,逆方向電流-電圧特性が熱電界放出モデルおよび電界放出モデルにより説明できることを明らかにした.