2019年第80回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

3 光・フォトニクス » 3.14 光制御デバイス・光ファイバー

[21a-E204-1~8] 3.14 光制御デバイス・光ファイバー

2019年9月21日(土) 09:00 〜 11:15 E204 (E204)

西山 道子(創価大)、曽根 宏靖(北見工大)

11:00 〜 11:15

[21a-E204-8] 側面研磨によるZBLANファイバカプラの開発

〇(M2)石井 知広1、梶川 詠司1、武者 満1、小川 和彦2 (1.電通大レーザー研、2.ファイバーラボ)

キーワード:ZBLAN、カプラ、側面研磨

フッ化物を母材とするZBLANファイバは熱的安定性の低さからファイバカプラを通常の溶融延伸によって製造することができない。そこで我々は側面研磨によるシングルモードZBLANファイバカプラを提案し、開発を進めている。現在は側面研磨に成功し、ZBLANファイバのコアよりも屈折率の高い液体を研磨面に塗布し透過光損失を測定することで、コアの伝搬光が研磨面から染み出していることを確認している。