[21p-B31-1~14] 21.1 合同セッションＫ 「ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス」

[21p-B31-5] Ga源にGaCl₃又はGaClを用いるGa₂O₃ HVPE成長の熱力学解析

〇加茂 崇¹、三浦 遼¹、竹川 直¹、富樫 理恵²、後藤 健¹、熊谷 義直^1,3 (1.東京農工大院、2.上智大理工、3.東京農工大IGIR)

キーワード：酸化ガリウム、ハライド気相成長法、熱力学解析