2019年第80回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

6 薄膜・表面 » 6.4 薄膜新材料

[21p-C310-1~4] 6.4 薄膜新材料

2019年9月21日(土) 13:45 〜 14:45 C310 (C310)

西川 博昭(近畿大)

14:15 〜 14:30

[21p-C310-3] マイクロ波加熱法により作製された色素増感太陽電池におけるFTO透明導電膜のヘイズ率の影響

鈴木 康介1、内藤 貫太1、池谷 綾斗1、奥谷 昌之1 (1.静岡大院工)

キーワード:マイクロ波加熱、色素増感太陽電池、FTO

色素増感太陽電池の多孔質TiO2層を焼成する際、電気炉が一般に利用されているが、本研究ではマイクロ波加熱法に着目した。マイクロ波照射下でFTO透明導電膜が誘電損失により発熱するため、TiO2/FTO界面で集中的な発熱が起こる。前回、マイクロ波加熱法において、多孔質TiO2層の粒子間におけるネッキングの促進が観測され、この加熱法が色素増感太陽電池の作用極の作製に有効であることを報告した。そこで本研究では、色素増感太陽電池の作用極を構成するFTO膜のヘイズ率を変化させることで、さらなる電池特性の向上を試みた。