10:00 〜 10:15 [12a-W834-5] 窒素暴露した半導体フォトカソードの加熱処理に伴う表面機能変化 〇佐藤 大樹1、西谷 智博2、本田 善央2、天野 浩2 (1.名大院工、2.名大IMaSS)