09:30 〜 11:30 △ [11a-PB2-8] Si基板上SiO2絶縁膜の角度分解XPSを用いた深さ分解膜質評価 〇(M1)長谷川 菜1、武田 さくら1、吉栄 佑哉1、上沼 睦典1、石河 泰明1、浦岡 行治1、大門 寛1 (1.奈良先端大)