一般セッション(口頭講演)
3 光・フォトニクス » 3.2 材料・機器光学
2019年3月10日(日) 13:45 〜 15:45 S321 (S321)
△：奨励賞エントリー
▲：英語発表
▼：奨励賞エントリーかつ英語発表
空欄：どちらもなし
13:45 〜 14:00
〇藤枝 一郎1、柚木 康平1、高本 享昌1、繁田 光浩1、堤 康宏1 (1.立命館大理工)
スケジュール
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)
14:00 〜 14:15
〇福本 禄寿1、太田 正倫1、繁田 光浩1、堤 康宏1、藤枝 一郎1 (1.立命館大理工)
スケジュール
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14:15 〜 14:30
〇(M1)影山 明久1、富田 康生1、梅本 浩一2、Klepp Jürgen3、Pruner Chrinstian4、Fally Martin3 (1.電通大、2.ダイセル、3.ウィーン大、4.ザルツブルグ大)
スケジュール
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14:30 〜 14:45
〇二神 渉1、熊澤 光章1、眞田 夕子1、村口 良1 (1.日揮触媒化成(株))
スケジュール
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15:00 〜 15:15
〇(M1)百崎 龍成1、河合 孝太郎2、坂本 盛嗣1、野田 浩平1、佐々木 友之1、川月 喜弘3、小野 浩司1 (1.長岡技科大、2.神戸高専、3.兵庫県立大)
スケジュール
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15:15 〜 15:30
〇(M1)王 培ヒン1、竹家 啓1、川瀬 晃道1、内田 裕久1,2 (1.名古屋大学、2.アークレイ(株))
スケジュール
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15:30 〜 15:45
〇吉尾 里司1、足立 健治1 (1.住友金属鉱山)
スケジュール
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