[10a-M112-1~6] 2.3 放射線応用・発生装置・新技術

[10a-M112-4] 超長時間アニール後の Si 微細穴 X 線光学系の鏡形状評価

〇伊師 大貴¹、江副 祐一郎¹、石川 久美²、沼澤 正樹¹、藤谷 麻衣子¹、大坪 亮太¹、福島 碧都¹、鈴木 光¹、永利 光¹、湯浅 辰哉¹、金森 義明³、大橋 隆哉¹、満田 和久² (1.首都大、2.JAXA 宇宙研、3.東北大)

キーワード：MEMS 技術、X線光学系、高温アニール

我々は MEMS 技術を応用した独自の超軽量X線望遠鏡を開発している。厚み 300 μm の薄い Si 基板に幅 20 μm の微細穴を多数開け、その側壁を高温アニールで平滑化した後、X線反射鏡として利用する。これまで角度分解能に課題があり、>100 μm スケールの鏡形状を改善する必要があった。そこで高温アニールのプロセス時間を従来の 10時間から 100時間に伸ばし、各アニール時間における鏡形状の変化と角度分解能を評価した。本講演では、超長時間アニール後の性能評価について報告する。