2019年第66回応用物理学会春季学術講演会

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一般セッション(ポスター講演)

13 半導体 » 13.2 探索的材料物性・基礎物性

[10a-PB2-1~18] 13.2 探索的材料物性・基礎物性

2019年3月10日(日) 09:30 〜 11:30 PB2 (武道場)

09:30 〜 11:30

[10a-PB2-18] バッファー層を用いたSi基板上への高品位鉄酸化物薄膜の作製

山中 健太1,2、高野 健吾1,2、山口 憲司2 (1.茨城大、2.量研機構)

キーワード:半導体、薄膜、スパッタ蒸着