[10a-PB2-1~18] 13.2 探索的材料物性・基礎物性

[10a-PB2-4] Si基板上CaSi₂薄膜のフッ化処理

〇伊藤 健治¹、大砂 哲¹、中野 秀之¹ (1.豊田中研)

キーワード：カルシウムシリサイド、シリセン、フッ化処理

Si基板上に形成されたCaSi₂薄膜のフッ素系イオン液体を用いたフッ化処理による大面積なシリセン形成について検討している。SiO₂によりCaSi₂表面を保護することにより、CaSi₂表面とイオン液体の反応を抑制しながら、面内横方向にフッ素を拡散できることを示唆する結果を得た。