[10a-S224-1~8] 7.5 イオンビーム一般

[10a-S224-7] 高分子のSIMS分析に向けたエレクトロスプレーイオン源の開発

〇(M2)山田 周平¹、瀬木 利夫¹、青木 学聡²、松尾 二郎¹ (1.京大院工、2.京大メディアセンター)

キーワード：イオンビーム、二次イオン質量分析法、エレクトロスプレー

近年、高分子を質量分析する技術の需要が高まっており、二次イオン質量分析法(SIMS)も高分子の分析手法の一つである。一次イオンにアルゴンクラスターを用いることにより、1kDa以上の高分子の分析が可能となったが、さらに大きな質量領域での検出感度向上が課題である。そこで今回、エレクトロスプレーにより生成したグリセロールのエレクトロスプレーをSIMSに用いるためのイオン源を開発した。