2019年第66回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

13 半導体 » 13.9 化合物太陽電池

[10p-W321-1~16] 13.9 化合物太陽電池

2019年3月10日(日) 13:15 〜 17:30 W321 (W321)

石塚 尚吾(産総研)、宮崎 尚(防衛大)

14:15 〜 14:30

[10p-W321-5] Ga/(Ga+In)比が三段階法のCu過剰段階に与える影響

小林 拓己1、下山 達大2、松尾 拳2、中田 和吉1、山田 明1 (1.東工大工学院、2.東工大工)

キーワード:三段階法、結晶成長

我々は高Ga組成CIGSにおける膜の高品質化を目的とし、3段階蒸着法をベースにした製膜条件の再検討を行っている。3段階蒸着においては、2段階目終了付近のCIGS・Cu2-xSeの二相共存状態を経由する結晶成長が大きな特徴である。本報告では、In, Ga組成の異なるサンプル間でCu過剰組成の膜について比較観察を行い、高Ga組成CIGSの成長に関する問題点並びにその改善方法について検討した。