[10p-W631-1~12] CS.5 6.1 強誘電体薄膜、13.3 絶縁膜技術、13.5 デバイス／配線／集積化技術のコードシェアセッション

[10p-W631-5] 酸化熱処理によるHfO₂強誘電相消失のメカニズム

〇矢嶋 赳彬¹、森 優樹¹、西村 知紀¹、鳥海 明¹ (1.東大マテ)

キーワード：強誘電性、相転移、HfO2

GeドープHfO₂多結晶薄膜が熱処理中に示す、強誘電相と常誘電相（モノクリニック相）との競合現象を調べることで、強誘電相が消失するメカニズムを明らかにすることを目的とした。強誘電相が熱処理中に酸化されると格子変形を引き起こし、低温域（<<600℃）でモノクリニック相へ相転移することが分かった。