2019年第66回応用物理学会春季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

15 結晶工学 » 15.3 III-V族エピタキシャル結晶・エピタキシーの基礎

[11a-S422-1~10] 15.3 III-V族エピタキシャル結晶・エピタキシーの基礎

2019年3月11日(月) 09:30 〜 12:15 S422 (S422)

權 晋寛(東大)、山根 啓輔(豊橋技科大)

11:45 〜 12:00

[11a-S422-9] MOVPE法によるInAs/GaSb超格子成長時の異種V族混入量の推定

今村 優希1、山形 勇也1、中山 優希1、若城 玲亮1、前田 幸治1、荒井 昌和1 (1.宮崎大工)

キーワード:有機金属気相成長、超格子

赤外波長帯には可燃性ガスや一酸化炭素、二酸化炭素などの光吸収線があり、ガスセンシング用にレーザや受光素子のニーズが高い。本研究ではType-II型のヘテロ構造となるInAs/GaSb超格子の有機金属気相成長法(MOVPE)による光デバイス実現を目指している。InAsとGaSbのガス切り替え時のV族ガス残留により3元混晶化することを想定し、エクスポネンシャル関数でXRDの0次ピークとフィッティングすることで高い相関を確認した。今後はより急峻な界面を実現できるガス切り替えの検討を行う。