10:00 〜 10:15
[11a-W351-5] (K, Na)NbO3薄膜へのドーピング効果
キーワード:非鉛系圧電薄膜
現在、Pb(Zr, Ti)O3 (PZT)圧電薄膜の代替材料として(K, Na)NbO3 (KNN) 薄膜が注目されている。KNN薄膜の圧電特性向上のために、様々な元素によるドーピングが有効な手段と考えられているが、これまで系統的な研究報告は少ない。本研究は、多元RFスパッタリング法を用いてKNNとドーパントターゲットを同時スパッタすることでドーピングを行い、電気特性および圧電特性に与える影響を調べた。