2019年第66回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

17 ナノカーボン » 17.2 グラフェン

[11a-W521-1~4] 17.2 グラフェン

2019年3月11日(月) 09:00 〜 10:00 W521 (W521)

吾郷 浩樹(九大)

09:45 〜 10:00

[11a-W521-4] 酸化グラフェン修復過程における六方晶窒化ホウ素の触媒作用

小幡 誠司1、渡邊 賢司2、谷口 尚2、塚越 一仁2、斉木 幸一朗1 (1.東大新領域、2.物材機構)

キーワード:グラフェン、酸化グラフェン

六方晶窒化ホウ素 (h-BN)上のグラフェンは、非常に高い移動度を示すことなどから近年盛んに研究が進められている。本発表では酸化グラフェン (GO)を出発物質としたグラフェン/h-BN構造の大量作製手法に関して報告する。具体的には、h-BNがGOのグラフェン化に対する触媒性を有すること、単層GO/h-BN構造の簡便な作製法の開発について発表する。