2019年第66回応用物理学会春季学術講演会

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一般セッション(ポスター講演)

15 結晶工学 » 15.3 III-V族エピタキシャル結晶・エピタキシーの基礎

[11p-PA4-1~13] 15.3 III-V族エピタキシャル結晶・エピタキシーの基礎

2019年3月11日(月) 13:30 〜 15:30 PA4 (屋内運動場)

13:30 〜 15:30

[11p-PA4-4] 窒素をデルタドープした GaAs の3パルスフォトンエコー測定

田久保 悠一1、石澤 輝1、佐久間 芳樹2、池沢 道男1 (1.筑波大物理、2.物材機構)

キーワード:四光波混合、窒素をデルタドープしたGaAs

GaAs中に希薄にデルタドープされた窒素不純物によって形成される発光中心は数百ps程度の短い寿命を持つ明るい単一光子源として有用である。我々は以前、これらの窒素発光中心に束縛された励起子のコヒーレンスを評価するために、2パルスのヘテロダイン検出縮退四光波混合(FWM)を用いてフォトンエコー信号を観測し、位相緩和時間を測定した。今回、3パルスによる誘導エコーを観測したので報告する。