2019年第66回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

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[11p-S011-1~18] 21.1 合同セッションK 「ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス」

2019年3月11日(月) 13:45 〜 18:45 S011 (南講義棟)

佐々木 公平(ノベルクリスタルテクノロジー)、西中 浩之(京都工繊大)、池之上 卓己(京大)

17:15 〜 17:30

[11p-S011-13] 水熱合成単結晶ZnO基板の薄膜化プロセスと微小共振器構造への応用

嶋 紘平1、小島 一信1、秩父 重英1 (1.東北大多元研)

キーワード:酸化亜鉛、化学機械研磨、微小共振器

ZnO微小共振器中の励起子ポラリトンを利用するポラリトンレーザは、発振に必要な閾値電流密度が非常に小さいため省エネルギーコヒーレント光源として有望である。ZnO微小共振器中の励起子と光子の相互作用を強めるためには、ZnO活性層中の貫通転位(TD)や点欠陥性の非輻射再結合中心(NRC)を減らす必要がある。本研究では、TD密度が低い単結晶バルクZnO基板を薄膜化し、その両面に分布ブラッグ反射鏡を配置するポラリトンレーザ構造の形成を目指して、ZnO基板の研磨により導入される欠陥が非輻射再結合寿命に及ぼす影響を時間分解フォトルミネッセンス法により評価した。