[12a-W641-1~14] 8.2 プラズマ成膜・エッチング・表面処理

[12a-W641-2] 高ガス流速下におけるシランプラズマ中で発生した粒子の堆積とその膜質への影響

田中 和真¹、石 榴¹、原 尚志¹、永石 翔大¹、山下 大輔¹、鎌滝 晋礼¹、板垣 奈穂¹、〇古閑 一憲^1,2、白谷 正治¹ (1.九大シス情、2.自然科学研究機構)

キーワード：プラズマCVD、水素化アモルファスシリコン、高次シラン分子