The 66th JSAP Spring Meeting, 2019

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Oral presentation

8 Plasma Electronics » 8.2 Plasma deposition of thin film, plasma etching and surface treatment

[12a-W641-1~14] 8.2 Plasma deposition of thin film, plasma etching and surface treatment

Tue. Mar 12, 2019 9:00 AM - 12:45 PM W641 (W641)

Keigo Takeda(Meijo Univ.), Haruka Suzuki(Nagoya Univ.)

9:30 AM - 9:45 AM

[12a-W641-3] Flowability improvement of water-atomized stainless powder by thermal plasma spheroidization

Hirotomo Itagaki1, Kotaro Hanada1, Shingo Hirose1 (1.AIST)

Keywords:plasma spheroidization, Additive manufacturing

積層造形用金属粉末の低コスト化を目的として、プラズマ処理を用いた低品位粉末の高品位化技術の研究を実施している。本研究では、低コストだが流動性が低く内部欠陥の多い水アトマイズ異形粉末へのプラズマ球状化処理し、処理粉末のXPSやSEMによる表面物性計測や表面観測を実施すると共に、その流動性を評価した。