2019年第66回応用物理学会春季学術講演会

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一般セッション(ポスター講演)

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[9p-PA1-1~28] 6.4 薄膜新材料

2019年3月9日(土) 13:30 〜 15:30 PA1 (屋内運動場)

13:30 〜 15:30

[9p-PA1-2] ガラスおよびSi基板上に作製した(001)配向CoxFe3-xO4薄膜のEBSDによる評価

安田 敬太1、西川 雅美1、石橋 隆幸1 (1.長岡技大工)

キーワード:コバルトフェライト、(001)配向膜、電子線後方散乱回折法

近年、MgO基板上に作製された(001)コバルトフェライト薄膜は、高い垂直磁気異方性を示すことが報告され注目されている。前回、我々は、有機金属分解(MOD)法によりガラスおよびSi基板上にCoxFe3-xO4薄膜が特定の仮焼成条件で 001配向することを報告した。今回は、作製したCoxFe3-xO4薄膜をEBSDにより評価した結果について報告する。