14:30 〜 14:45 [11p-Z07-7] Ti/HfO2/Au-ReRAMにおけるRESET時の電圧パルス下抵抗変化挙動へのHfO2膜の膜質の相違が与える影響 〇森本 雅大1、畠中 林太郎1、依岡 拓也1、清水 智弘1、伊藤 健1、新宮原 正三1 (1.関大理工)