一般セッション(口頭講演)
3 光・フォトニクス » 3.2 材料・機器光学
09:00 〜 09:30
〇鶴田 匡夫1 (1.元ニコン)
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09:30 〜 09:45
〇松田 汐利1、堤 康宏1、藤枝 一郎1 (1.立命館大理工)
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09:45 〜 10:00
〇藤枝 一郎1、堤 康宏1 (1.立命館大理工)
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10:00 〜 10:15
小嶋 優斗1、〇斉藤 光徳1 (1.龍谷大理工)
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10:30 〜 11:00
〇丸山 晃一1 (1.チームオプト株式会社)
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11:00 〜 11:15
〇(M2)渡邉 明理1、井上 純一1、金高 健二2、Robert Magnusson3、裏 升吾1 (1.京都工繊大、2.産総研、3.テキサス大アーリントン校)
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11:15 〜 11:30
〇山田 泰美1、江守 秀之1、平井 利博2 (1.日東電工、2.信州大繊維)
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11:30 〜 11:45
〇林 孝星1,2、藤巻 康人1、三柴 健太郎1、渡辺 洋人1、今井 宏明2 (1.都産技研、2.慶應大理工)
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