2020年第81回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

CS コードシェアセッション » 【CS.5】 6.1 強誘電体薄膜、13.3 絶縁膜技術、13.5 デバイス/配線/集積化技術のコードシェアセッション

[10a-Z24-1~12] 【CS.5】 6.1 強誘電体薄膜、13.3 絶縁膜技術、13.5 デバイス/配線/集積化技術のコードシェアセッション

2020年9月10日(木) 08:45 〜 12:00 Z24

藤沢 浩訓(兵庫県立大)、藤井 章輔(キオクシア)

11:45 〜 12:00

[10a-Z24-12] Si強誘電体FETにおける強誘電分極に誘起される反転層電荷の振る舞い

トープラサートポン カシディット1、林 早阳1、李 宗恩1、竹中 充1、高木 信一1 (1.東大院工)

キーワード:強誘電体FET, 動作機構, メモリ窓

本研究ではHf0.5Zr0.5O2/Si FeFETにおける電子と正孔の反転層電荷の振る舞いを調べた。分極によってp-FeFETの反転層正孔は効率よく形成される一方、n-FeFETの電子はほとんどトラップされる。このような分極と反転層の相互作用はデバイス特性に大きく影響を与えることがわかった。