2020年第81回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

15 結晶工学 » 15.4 III-V族窒化物結晶

[10p-Z02-1~22] 15.4 III-V族窒化物結晶

2020年9月10日(木) 13:00 〜 19:15 Z02

岡田 成仁(山口大)、石井 良太(京大)、室谷 英彰(徳山高専)

13:30 〜 13:45

[10p-Z02-2] 4インチ対応オートクレーブを用いた低圧酸性アモノサーマル(LPAAT)法による バルク GaN 結晶成長

栗本 浩平1,2、包 全喜1,2、三川 豊3、冨田 大輔2、嶋 紘平2、小島 一信2、石黒 徹2、秩父 重英2 (1.日本製鋼所、2.東北大多元研、3.三菱ケミカル)

キーワード:GaN, アモノサーマル法, バルク結晶

大口径バルクGaN結晶の量産化手法の一つとして酸性アモノサーマル法が期待されている。我々は4インチ径ウエハの製造が可能な内径120 mmのGaN結晶成長用オートクレーブを導入して結晶成長実験を行い、4インチサイズの種結晶を用いた成長に成功したことを報告してきた。本講演では、当該オートクレーブを用いた結晶成長の最新の成果について報告する。