12:30 〜 12:45
[10p-Z09-1] 水流設計によるバッチ式シリコンウエハ湿式洗浄の短時間化
キーワード:シリコンウエハ洗浄装置, 水流
半導体シリコンウエハの湿式洗浄槽内を汚れが循環することを抑えるため、前報では洗浄槽の4つの壁面の上端部に排出孔を設けることを提案し、可視化実験により検証した。さらに短時間で洗浄できる流れを作るために、本研究では排出孔を設ける箇所を絞り、洗浄槽の2つの側壁上端部に限定する構造を検討した。
一般セッション(口頭講演)
13 半導体 » 13.1 Si系基礎物性・表面界面・シミュレーション
12:30 〜 12:45
キーワード:シリコンウエハ洗浄装置, 水流