2020年第81回応用物理学会秋季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

13 半導体 » 13.2 探索的材料物性・基礎物性

[11a-Z01-1~11] 13.2 探索的材料物性・基礎物性

2020年9月11日(金) 08:30 〜 11:30 Z01

末益 崇(筑波大)、原 康祐(山梨大)

11:15 〜 11:30

[11a-Z01-11] Au/Mo、Au/Ptメッシュ状電極Mg2Si PDの分光感度特性

市川 雄大1、新岡 大介1、宮内 壮流1、吉田 美沙2、津谷 大樹2、鵜殿 治彦1 (1.茨城大、2.NIMS)

キーワード:半導体, マグネシウムシリサイド, フォトダイオード

我々は n型 Mg2Si基板上に Agを熱拡散させることで pn接合フォトダイオー
ド( PD)を作製し、分光感度特性を報告してきた。前回、 p型拡散層と金属電極間の仕事関数差を考慮して電極を Tiから Niへ変えることで価電子帯にエネルギー障壁を生じず、受光感度が向上することを報告した。 Mg2Siの電子親和力から、 Moや Ptを用いることでも Ni同様に受光感度が向上すると考えられる。そこで今回、 Au/Moと Au/Ptのメッシュ状電極 PDを作製し、分光感度特性を評価したので報告する。