[11p-Z10-1~8] 13.3 絶縁膜技術

[11p-Z10-3] Hf 堆積後成膜による GeO₂/Ge 構造作製の検討

〇堀口 遥¹、上野 智雄¹、岩崎 好孝¹、飯野 寛貴¹ (1.農工大院工)

キーワード：絶縁膜