一般セッション(口頭講演)
合同セッションＫ「ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス」 » 21.1 合同セッションＫ 「ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス」
2020年3月13日(金) 13:45 〜 18:15 D419 (11-419)
△：奨励賞エントリー
▲：英語発表
▼：奨励賞エントリーかつ英語発表
空欄：どちらもなし
13:45 〜 14:15
〇藤田 静雄1 (1.京大院工)
スケジュール
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14:15 〜 14:30
〇(D)神野 莉衣奈1、増田 泰久1、金子 健太郎1、藤田 静雄1 (1.京大院工)
スケジュール
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14:30 〜 14:45
〇宇野 和行1、太田 茉莉香1、田中 一郎1 (1.和歌山大)
スケジュール
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14:45 〜 15:00
〇堀江 竜斗1、田原 大祐1、西中 浩之1、吉本 昌広1 (1.京工繊大)
スケジュール
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15:00 〜 15:15
〇(M1)伊藤 雄祐1、藤原 悠希1、西中 浩之1、田原 大祐1、島添 和樹1、新田 悠汰1、野田 実1、吉本 昌広1 (1.京工繊大)
スケジュール
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15:15 〜 15:30
〇久保 理1、丹波 大樹1、尾坂 駿1、織田 真也2、田畑 博史1、片山 光浩1 (1.大阪大学、2.FLOSFIA)
スケジュール
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15:30 〜 15:45
〇(DC)Zaichun Sun1、Daichi Oka1、Tomoteru Fukumura1,2 (1.Dept. Chem., Tohoku Univ.、2.AIMR and Core Research Cluster, Tohoku Univ.)
スケジュール
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15:45 〜 16:00
〇(B)中西 雅彦1、ワン マンホイ2、山口 智広1、本田 徹1、東脇 正高2、尾沼 猛儀1 (1.工学院大、2.情通機構)
スケジュール
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16:15 〜 16:30
〇宝賀 剛1,2、山下 晶洸2,3、朝日 透3、知京 豊裕2、長田 貴弘2 (1.鶴岡高専、2.物質・材料研究機構、3.早稲田大)
スケジュール
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16:30 〜 16:45
〇須田 潤1、佐藤 豪紀1、山田 孝治1 (1.中京大工)
スケジュール
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16:45 〜 17:00
〇林 家弘1、干川 圭吾2,3、鍛治倉 惇3、ティユ クァントゥ1、タンガラジャ アムタ1、内田 悠貴1、小石川 結樹1、大塚 文雄1、渡辺 信也1、佐々木 公平1、倉又 朗人1 (1.ノベルクリスタルテクノロジー、2.信州大工、3.不二越機械工業)
スケジュール
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17:00 〜 17:15
〇山口 慎也1、町田 信夫1、高塚 章夫1、大塚 文雄1、佐々木 公平1、倉又 朗人1 (1.ノベルクリスタルテクノロジー)
スケジュール
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17:15 〜 17:30
〇(M1)Maria Gouveia1,2、Aboulaye Traore1,3、Hitoshi Umezawa3、Hideki Inaba3、Toshimitsu Ito3、Takeaki Sakurai1 (1.Univ. of Tsukuba、2.Univ. of Grenoble-Alpes、3.AIST)
スケジュール
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17:30 〜 17:45
〇脇本 大樹1、佐々木 公平1、宮本 広信1、ティユ クァントゥ1、倉又 朗人1、山腰 茂伸1 (1.ノベルクリスタルテクノロジー)
スケジュール
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17:45 〜 18:00
〇内田 悠貴1、加瀬 正史1、青木 和夫1、山腰 茂伸1、佐々木 公平1、倉又 朗人1 (1.NCT)
スケジュール
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18:00 〜 18:15
〇上村 崇史1、中田 義昭1、東脇 正高1 (1.情通機構)
スケジュール
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