2020年第67回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

3 光・フォトニクス » 3.7 レーザープロセシング

[12a-B410-1~8] 3.7 レーザープロセシング

2020年3月12日(木) 09:30 〜 11:45 B410 (2-410)

大越 昌幸(防衛大)、津山 美穂(近畿大)

11:00 〜 11:15

[12a-B410-6] パルスレーザーメルティング法(PLM)によって 硫黄を過飽和ド-プしたSi 結晶の少数キャリア濃度

川本 兼司1、青木 珠緒1、梅津 郁朗1 (1.甲南大)

キーワード:パルスレーザーメルティング、太陽電池、過飽和ドープ