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一般セッション(口頭講演)

3 光・フォトニクス » 3.7 レーザープロセシング

[12p-B410-1~16] 3.7 レーザープロセシング

2020年3月12日(木) 13:30 〜 18:00 B410 (2-410)

中村大輔(九大)、寺川光洋(慶大)、辻剛志(島根大)

13:45 〜 14:00

[12p-B410-2] 液中レーザーアブレーション法によるGd₂O₃:Er,Yb ナノ粒子の作製と光学特性

〇(M1)鄭優莉¹、Wang Haohao²、和田裕之¹ (1.東工大物質理工、2.南京農大)

キーワード：ナノ粒子