2020年第67回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

15 結晶工学 » 15.3 III-V族エピタキシャル結晶・エピタキシーの基礎

[12p-D215-1~12] 15.3 III-V族エピタキシャル結晶・エピタキシーの基礎

2020年3月12日(木) 14:00 〜 17:30 D215 (11-215)

海津 利行(神戸大)、舘林 潤(阪大)、中尾 亮(NTT)

14:00 〜 14:15

[12p-D215-1] [講演奨励賞受賞記念講演] X線その場観察法を用いたGaAsSb/GaAs(001)の格子緩和初期における異方性評価

久保 幸士朗1、野川 翔太1、河野 将大1、佐々木 拓生2、高橋 正光2、鈴木 秀俊1 (1.宮崎大工、2.量研)

キーワード:その場観察、GaAsSb、格子緩和

多接合太陽電池では格子不整合材料の積層が行われるが、歪み緩和に起因した貫通転位の活性層への伝搬が問題となっている。転位低減のためには歪み緩和のメカニズムの理解が重要である。そこで我々は格子緩和初期に発生するBragg回折ピーク近傍のサテライトピークに注目し、GaAs(001)基板上へのGaAsSb作製時に放射光X線を用いて3次元逆格子マッピングでその場観察することにより、緩和過程初期における転位挙動の異方性を評価した。