2020年第67回応用物理学会春季学術講演会

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コードシェアセッション » 【CS.6】 8.3 プラズマナノテクノロジーと9.2 ナノ粒子・ナノワイヤ・ナノシートと13.6 ナノ構造・量子現象・ナノ量子デバイスのコードシェアセッション

[12p-D511-1~13] 【CS.6】 8.3 プラズマナノテクノロジーと9.2 ナノ粒子・ナノワイヤ・ナノシートと13.6 ナノ構造・量子現象・ナノ量子デバイスのコードシェアセッション

2020年3月12日(木) 13:45 〜 17:15 D511 (11-511)

古閑 一憲(九大)、加納 伸也(産総研)

16:30 〜 16:45

[12p-D511-11] 液中プラズマを用いたナノグラフェン合成における照射時間依存性[Ⅰ]

濱地 遼1、近藤 博基2、堤 隆嘉2、石川 健治2、関根 誠2、堀 勝2 (1.名大院工、2.名大低温プラズマ)

キーワード:液中プラズマ、ナノグラフェン、カーボン

液中プラズマによるナノグラフェンの合成では、多様な反応活性種および副生成物の生成や、合成されたナノグラフェンへのプラズマ照射ダメージが同時進行するため、その合成機構は十分明らかでない。そこで本研究では合成機構解明に向け、プラズマ照射時間に対する活性種生成やナノグラフェンの結晶性などの変化を調査した。それらの結果より、合成中に発生するOHラジカルがナノグラフェンの結晶性に寄与していることが示唆された。