[12p-PA5-1~34] 12.4 有機EL・トランジスタ

[12p-PA5-6] 低ダメージスパッタ法で堆積したITO上部電極膜有するトップエミッション型OLED素子の熱処理に関する検討

〇安田 洋司¹、小林 信一¹、内田 孝幸¹、星 陽一¹ (1.東京工芸大工)

キーワード：有機EL、低ダメージスパッタ

我々は有機EL素子の上部電極膜をスパッタ法で堆積する技術の開発に取り組んできた。その結果、上部電極膜のスパッタ堆積時に基板に入射する高エネルギー粒子によるダメージを抑制することで発光特性が改善すること、電極膜堆積時の基板温度が素子特性に大きな影響を与えることを明らかにしてきた。本研究では、ITO上部電極膜を対向ターゲット式低ダメージスパッタ法により堆積しトップエミッション型OLED素子を実現した。さらに、発光特性の改善のため基板に70-110℃の範囲で大気アニール処理を施した結果を報告する。