2020年第67回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

3 光・フォトニクス » 3.7 レーザープロセシング

[13a-B410-1~9] 3.7 レーザープロセシング

2020年3月13日(金) 09:00 〜 11:30 B410 (2-410)

奈良崎 愛子(産総研)、伊藤 佑介(東大)

10:45 〜 11:00

[13a-B410-7] ArFレーザー照射によりシリコーンゴム表面に作製された微細隆起構造の成長速度

横山 岬1、吉田 剛1、松木 伸行2、大越 昌幸1 (1.防衛大電気電子、2.神大工)

キーワード:ArFエキシマレーザー、シリコーンゴム、微細隆起構造

これまで我々は,ArFレーザーを用いたシリコーンゴム表面の光化学的改質により, その表面に超撥水性を発現する微細隆起構造を作製可能であることを報告した。隆起構造は様々なレーザーパラメータに依存することが分かっている一方で,その高さが決定されるメカニズムについては未解明な点が多い。発表では, レーザーフルエンスごとの隆起構造成長過程を比較し, 隆起構造の高さが決定されるメカニズムについて議論する。