2020年第67回応用物理学会春季学術講演会

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一般セッション(ポスター講演)

6 薄膜・表面 » 6.3 酸化物エレクトロニクス

[13a-PA3-1~35] 6.3 酸化物エレクトロニクス

2020年3月13日(金) 09:30 〜 11:30 PA3 (第3体育館)

09:30 〜 11:30

[13a-PA3-33] 六方晶GdFeO3マルチフェロイック薄膜の合成

笠原 淳1、片山 司1、毛 司辰1、近松 彰1、安井 伸太郎2、伊藤 満2、長谷川 哲也1 (1.東大院理、2.東工大)

キーワード:薄膜、YMnO3型構造、マルチフェロイック

近年、弱強磁性と強誘電性を併せ持つh-RFeO3材料の研究が盛んに行なわれている。本研究ではPLD法により高品質のh-GdFeO3薄膜をITO/YSZ基板上に作製することに成功した。また、得られた薄膜の磁気・誘電特性を評価した。