[14p-A403-1~19] 17.2 グラフェン

[14p-A403-14] 紫外光照射下での活性酸素種による単層グラフェンへの欠陥生成制御

〇加藤 隆一¹、Mekawy Moataz¹、長谷川 雅考¹ (1.産総研)

キーワード：グラフェン、低次元材料

本研究では単層グラフェンへの欠陥導入法として、紫外線と酸素ガスを使用し酸素分子の光解離により生成するオゾンと生成したオゾンの分解により生じる活性酸素種を利用することでグラフェンへの欠陥導入を実施した。またオゾン・ラジカル量を酸素濃度で変化させることでグラフェンへの欠陥生成の制御を試みた。