[15a-A304-1~10] 8.5 プラズマ現象・新応用・融合分野

[15a-A304-2] パルス放電照射によるテレフタル酸分解(2) -副生成物の詳細分析-

〇高橋 一弘¹、佐藤 孝紀¹ (1.室蘭工大)

キーワード：テレフタル酸、OHラジカル、プラズマ照射水

テレフタル酸(TA)水溶液に水上パルス放電を照射したときの副生成物を液体クロマトグラフ質量分析により調査した。ヒドロキシテレフタル酸に加えて，ヒドロキシ安息香酸，ジヒドロキシ安息香酸，ジヒドロキシテレフタル酸およびトリヒドロキシテレフタル酸が生成されることがわかり，これらもOHラジカルと反応すると考えられ，TAを用いたOHラジカルの生成レートの正確な推定には，副生成物の定量も必要であることが示された。