2020年第67回応用物理学会春季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

7 ビーム応用 » 7.3 微細パターン・微細構造形成技術

[15p-D215-1~11] 7.3 微細パターン・微細構造形成技術

2020年3月15日(日) 13:45 〜 16:45 D215 (11-215)

山本 治朗(日立)、谷口 淳(東理大)、川田 博昭(阪府大)

13:45 〜 14:00

[15p-D215-1] 一列アレイを積層した正方形断面光ファイバマトリックスの露光特性

堀内 敏行1、渡辺 潤1、岩崎 順哉1、小林 宏史1 (1.東京電機大院工)

キーワード:光ファイバマトリックス、マトリックス投影露光、正方形化光ファイバ

2次元コードマークをマスクレスで簡便安価に転写するため、直径0.5mmの光ファイバを一列に並べて先端を同時に正方形化したときの光漏洩と、それを積層してマトリックス露光するときの隣接箇所への影響を検討した。同時成型により射出光の光漏洩を1本ずつ成型するときの平均60%以下にでき、1/10縮小投影時の寸法ばらつきは±3%以下とできた。また、漏洩光により隣接部はほとんど露光されないことが分かった。