2020年第67回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

6 薄膜・表面 » 6.3 酸化物エレクトロニクス

[15p-D311-1~8] 6.3 酸化物エレクトロニクス

2020年3月15日(日) 13:45 〜 15:45 D311 (11-311)

清水 亮太(東工大)

14:15 〜 14:30

[15p-D311-3] 繰り返し液相堆積SrTiO3薄膜の誘電率向上の検討

百貫 将吾1、荒川 太郎1、羽路 伸夫1 (1.横国大院工)

キーワード:液相堆積法、チタン酸ストロンチウム

我々はこれまで、低コストで低温プロセスであるSrTiO3膜の製膜方法として液相堆積(Liquid Phase Deposition:LPD)法を検討し、SiO2/Si上へのSrTiO3薄膜合成に成功している。しかし、比誘電率は90程度で、ゾルゲル法などの他の製膜法を用いた場合と比較すると比誘電率が低いという問題があった。そこで、比誘電率の向上を図るため、堆積を2回に分けて行う繰り返しLPD法を提案し、本手法によって製膜したSrTiO3の特性を評価したので報告する。