10:00 〜 10:15 △ [11a-N302-5] 反応性スパッタリングによるMoS2薄膜の作製 〇(D)金 明玉1,2、ジトー マキシム1、宮下 直也1、岡田 至崇1,2 (1.東大先端研、2.東大院工)