17:00 〜 18:40 [23p-P13-11] グラフェンを用いた絶縁膜上におけるGe選択形成技術 〇塚本 貴広1、広瀬 信光2、笠松 章史2、松井 敏明2、須田 良幸3 (1.電通大、2.情報通信研究機構、3.東京農工大)