一般セッション(口頭講演)
3 光・フォトニクス » 3.2 材料・機器光学
2021年9月10日(金) 13:00 〜 15:15 N205 (口頭)
△：奨励賞エントリー
▲：英語発表
▼：奨励賞エントリーかつ英語発表
空欄：どちらもなし
13:00 〜 13:15
〇中村 紘菜1、小林 吉彰1、相沢 美帆2、久保 祥一1、宍戸 厚1 (1.東工大化生研、2.産総研)
スケジュール
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13:15 〜 13:30
〇松本 浩輔1、臼井 鴻志1、久保 祥一1、宍戸 厚1 (1.東工大化生研)
スケジュール
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13:30 〜 13:45
〇(D)百崎 龍成1、坂本 盛嗣1、野田 浩平1、佐々木 友之1、酒井 丈也2、服部 幸年2、川月 喜弘3、小野 浩司1 (1.長岡技科大工、2.林テレンプ(株)、3.兵庫県立大)
スケジュール
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13:45 〜 14:00
〇富田 康生1、磯 由布子1、成田 麻子1、大島 寿朗2 (1.電通大 大学院、2.日産化学（株）)
スケジュール
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14:15 〜 14:30
〇(D)Ngo Ducthien1,2、Phuoc Toan Tran1,2、Hai Dang Ngo1,2、Tadaaki Nagao1,2 (1.MANA, NIMS、2.Hokkaido Univ.)
スケジュール
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14:30 〜 14:45
〇西村 拓飛1、松田 汐利1、水野 雄太1、藤枝 一郎1 (1.立命館大理工)
スケジュール
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14:45 〜 15:00
〇水野 雄太1、松田 汐利1、西村 拓飛1、藤枝 一郎1 (1.立命館大理工)
スケジュール
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15:00 〜 15:15
〇松田 汐利1、西村 拓飛1、水野 雄太1、藤枝 一郎1 (1.立命館大理工)
スケジュール
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