一般セッション(口頭講演)
6 薄膜・表面 » 6.3 酸化物エレクトロニクス
2021年9月13日(月) 09:00 〜 11:30 S203 (口頭)
△：奨励賞エントリー
▲：英語発表
▼：奨励賞エントリーかつ英語発表
空欄：どちらもなし
09:00 〜 09:15
〇高橋 圭1、十倉 好紀1,2、川﨑 雅司1,3 (1.理研 CEMS、2.東大東京カレッジ、3.東大院工)
スケジュール
いいね！
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09:15 〜 09:30
〇大熊 光1、片山 裕美子1、榊原 烈桜1、濱本 杏果1、門脇 福延1、上野 和紀1 (1.東大院総合)
スケジュール
いいね！
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09:30 〜 09:45
〇若林 勇希1、金田 真悟1、ヨシハル クロッケンバーガー1、谷保 芳孝1、山本 秀樹1 (1.NTT物性研)
スケジュール
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09:45 〜 10:00
〇若林 勇希1、金田 真悟1,2、ヨシハル クロッケンバーガー1、瀧口 耕介1,2、大矢 忍2、田中 雅明2、谷保 芳孝1、山本 秀樹1 (1.NTT物性研、2.東大工)
スケジュール
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10:00 〜 10:15
〇浅沼 周太郎1 (1.産総研)
スケジュール
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10:30 〜 10:45
〇成島 光宣1、伊勢 真矢1、川合 晃平1、石川 博康1,2 (1.芝浦工大、2.グリーンエレクトロニクス国際研究センター)
スケジュール
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10:45 〜 11:00
〇廣瀬 文彦1 (1.山形大院理工)
スケジュール
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11:00 〜 11:15
〇(DC)Zainab Fatima1、Daichi Oka1、Tomoteru Fukumura1 (1.Tohoku Univ.)
スケジュール
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11:15 〜 11:30
〇(D)Dian Putri Hastuti1、Kenji Nawa1、Kohji Nakamura1 (1.Mie University)
スケジュール
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