一般セッション(口頭講演)
6 薄膜・表面 » 6.3 酸化物エレクトロニクス
2021年9月13日(月) 13:00 〜 17:00 S203 (口頭)
△：奨励賞エントリー
▲：英語発表
▼：奨励賞エントリーかつ英語発表
空欄：どちらもなし
13:00 〜 13:15
〇難波 央1、服部 梓1、田中 秀和1 (1.阪大産研)
スケジュール
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13:15 〜 13:30
〇谷口 勇貴1、Musa Alaydrus2、濱田 幾太郎2、田中 秀和1 (1.阪大産研、2.阪大工)
スケジュール
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13:30 〜 13:45
〇(PC)HUI REN1、Ai Osaka1、Azusa Hattori1、Boyuan Yu1、Chongwen Zou2、Hidekazu Tanaka1 (1.SANKEN for Osaka University、2.NSRL for University of Science and Technology of China)
スケジュール
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13:45 〜 14:00
〇矢嶋 赳彬1、若藤 祐斉2、鳥海 明2 (1.九大シス情、2.東大マテ)
スケジュール
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14:00 〜 14:15
〇(M1)Rui Li1、Ai Osaka1、Azusa Hattori1、Hidekazu Tanaka1 (1.SANKEN, Osaka Univ.)
スケジュール
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14:15 〜 14:30
〇(DC)Boyuan Yu1、Shingo Genchi1、Mahito Yamamoto2、Kenji Watanabe3、Takashi Taniguchi3、Yasukazu Murakami4、Takehiro Tamaoka4、Hidekazu Tanaka1 (1.Sanken, Osaka Univ、2.Kansai Univ、3.NIMS、4.Kyushu Univ)
スケジュール
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14:30 〜 14:45
〇相馬 拓人1、岡部 宏和1、大友 明1,2 (1.東工大物質理工学院、2.元素戦略)
スケジュール
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15:00 〜 15:15
〇日高 温志1、小泉 洸生1、柳原 英人1 (1.筑波大学)
スケジュール
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15:15 〜 15:30
〇簑原 誠人1、浅沼 周太郎1、浅井 栄大1、土橋 優香2、三溝 朱音2、手塚 泰久3、小澤 健一4,5、間瀬 一彦5,6、菊地 直人1、相浦 義弘1 (1.産総研、2.東京理科大、3.弘前大、4.東工大、5.高エネ研、6.総研大)
スケジュール
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15:30 〜 15:45
〇田中 将也1、市村 正也1 (1.名工大工)
スケジュール
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15:45 〜 16:00
〇(DC)笹原 悠輝1、清水 亮太1、西山 宣正2,3、東 正樹3、一杉 太郎1 (1.東工大物質理工、2.住友電工アドバンス、3.東工大フロンティア)
スケジュール
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16:00 〜 16:15
〇神永 健一1、鈴木 貫太1、丸山 伸伍1、松本 祐司1 (1.東北大院工)
スケジュール
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16:15 〜 16:30
〇原 吉典1、辻榮 朝香1、島田 敏宏2、長浜 太郎2 (1.北大院総化、2.北大院工)
スケジュール
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16:30 〜 16:45
〇小塚 裕介1、増田 啓介1、三浦 良雄1、藤岡 淳2、磯上 慎二1、ダス サイカット1、大久保 忠勝1、葛西 伸哉1,3 (1.物材機構、2.筑波大、3.JSTさきがけ)
スケジュール
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16:45 〜 17:00
〇上田 浩平1,2、木田 孝則3、萩原 政幸3、松野 丈夫1,2 (1.阪大理、2.阪大CSRN、3.阪大先端強磁場)
スケジュール
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