2021年第82回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

13 半導体 » 13.1 Si系基礎物性・表面界面・シミュレーション

[10p-N304-1~10] 13.1 Si系基礎物性・表面界面・シミュレーション

2021年9月10日(金) 13:30 〜 16:15 N304 (口頭)

嵯峨 幸一郎(ソニー)、森 伸也(阪大)

15:45 〜 16:00

[10p-N304-9] 分子動力学法を用いたGe2Sb2Te5の熱伝導率計算

滝澤 諄弥1、富田 基裕1、山中 湧司1、渡邉 孝信1 (1.早大理工)

キーワード:相変化材料、分子動力学法

次世代の不揮発性メモリ技術として、Ge-Sb-Te系化合物を利用した相変化メモリが注目を集めているが、相変化に熱を伴うことから、熱流の制御は相変化メモリの構造設計において重要な課題となっている。本研究では、古典的分子動力学法では前例のないGe-Sb-Te系の熱特性の評価のために、機械学習によって開発されたポテンシャルを用いてGe2Sb2Te5の熱伝導率計測を実施した。