2021年第82回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

6 薄膜・表面 » 6.3 酸化物エレクトロニクス

[10p-S203-1~21] 6.3 酸化物エレクトロニクス

2021年9月10日(金) 13:00 〜 18:30 S203 (口頭)

松田 晃史(東工大)、新宮原 正三(関西大)

17:45 〜 18:00

[10p-S203-19] ディップ蒸発法によって作製した酸化アルミニウム透明薄膜

チン バイシェ1、市村 正也1 (1.名工大工)

キーワード:酸化アルミニウ、ディップ蒸発法

本研究では、溶液に基板を浸漬して少量の溶液をつけてから加熱することで、安易かつ大面積の堆積が可能なディップ蒸発堆積法によるAlOx堆積を行い、その後、厚さと透過率測定をはじめとした薄膜の評価を行った。その結果、AlOx薄膜は均一な厚さを持つ透明な膜である事がわかった。