[10p-S301-3~12] 8.1 Plasma production and diagnostics

[10p-S301-9] Production of RF ring-shaped hollow magnetized plasma for cylindrical facing target sputtering

〇Shoma Imoto¹, Yasunori Ohtsu¹ (1.Saga Univ.)

Keywords:cylindrical facing target sputtering

可視光を用いた半導体デバイスが多数必要となっており、光を透過させるために、電極には透明導電（TCO）膜が広く利用されている。TCO膜の合成は、マグネトロンスパッタが広く用いられているが、低い基板温度では、抵抗率の分布が不均一になるという課題がある。
本研究では、抵抗率の分布を均一化できる対向ターゲットスパッタに着目し、円筒対向ターゲットスパッタのためのリング状ホロー磁化プラズマを生成することを目的とした。