[11a-N321-1~11] 3.7 レーザープロセシング

△ [11a-N321-1] ダブルパルスフェムト秒レーザーによりSi表面に誘起されるプラズモニック・ナノアブレーションの制御

〇飯田 悠斗¹、立田 実花¹、宮地 悟代¹ (1.東京農工大)

キーワード：フェムト秒レーザー加工、表面プラズモン・ポラリトン、シリコン

高強度のフェムト秒（fs）レーザーをSiに集光照射し表面を過渡的に金属化した後、低強度のfsパルスを照射することにより、遅延時間で強度が変化するプラズモニック近接場がnmサイズのアブレーションを誘起することを初めて観測した。実験結果により、時間遅延でアブレーション深さを制御できること、アブレーション閾値未満のフルーエンスでも近接場により深くアブレーションできることを初めて明らかにした。