[11p-N321-1~8] 3.7 レーザープロセシング

△ [11p-N321-7] シリコーンゴム表面でのArFレーザー照射による微細隆起構造成長におけるパルス繰り返し周波数の影響

〇吉田 剛¹、大越 昌幸¹ (1.防大電気電子)

キーワード：真空紫外レーザー、表面改質

本研究室では、これまでシリカ微小球を単層整列したシリコーンゴムへのArFレーザー照射により、微小隆起構造の形成を報告した。本研究では、レーザーの繰り返し周波数に着目し、数百ミリ秒のレーザーパルスの間隔がシリコーンゴム表面での隆起構造の形成に大きく影響することを見出した。発表ではシリコーンゴム表面のATR-FTIRスペクトル測定などをもとに、数百ミリ秒のレーザーパルスの間隔が隆起構造成長に与える影響について議論する。